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闭合场非平衡磁控溅射离子镀膜(CMS)技术,作为物理气相沉积(PVD)刀具涂层制备的主要技术之一,它是一种高溅射速率、低基片温度的镀膜技术。它与真空蒸发和溶液电镀相比磁控溅射镀膜对环境友好,同时节约能源。相对与蒸发和电弧技术,磁控溅射镀膜技术沉积薄膜过程稳定、控制方便,可以根据不同的需要设计靶材,容易获得较大范围内的均一薄膜,与多级直流溅射镀膜相比,磁控溅射能够得到较好的结合力。

   非平衡磁控溅射主设备 

 

     

      设备原理图

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